Czysta Glinka Maska detoksykująca Czysta Glinka
Detoks dla skóry twarzy? Zapewni Ci go maska detoksykująca Czysta Glinka od L’Oréal, która dodatkowo rozświetli Twoją cerę. Przekonaj się sama.
Szczegóły produktu
Składniki
Aqua / Water, Kaolin, Montmorillonite, Lecithin, Polysorbate 20, Butylene Glycol, Propylene Glycol, Oryza Sativa Starch / Rice Starch, Ci 77499 / Iron Oxides, Moroccan Lava Clay, Charcoal Powder, Caprylyl Glycol, Citric Acid, Xanthan Gum, Polyglycerin-10, Polyglyceryl-10 Myristate, Polyglyceryl-10 Stearate, Sodium Dehydroacetate, Phenoxyethanol, Lilool, Limonene, Parfum / Fragrance. (F.I.L. B196439/1).
Pamiętaj, że lista składników umieszczana na produktach naszej marki jest regularnie udoskonalana. Zachęcamy do zapoznania się z najbardziej aktualną listą składników na opakowaniu produktu, aby upewnić się, że dany produkt jest odpowiedni dla Ciebie i Twojej skóry.